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雷火电竞网站_无需EUV光刻机 铠侠开发NIL半导体工艺:直奔5nm
日期:2021-11-24 15:20:18 编辑: 阅读:

 

  在半导体工艺进入10nm节点以后,EUV工艺是少不了的,可是EUV光刻机价钱高达10亿一台,并且产量有限,致使芯片出产本钱很高。日本铠侠公司此刻结合火伴开辟了新的工艺,可以不利用EUV光刻机,工艺直达5nm。

  据据日媒报道,铠侠从2017年最先与半导体装备厂佳能,和光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作,在日本三重县四日市的铠侠工场内研发纳米压印微影手艺(NIL)的量产手艺,铠侠已把握15nm量产手艺,今朝正在进行15nm以下手艺研发,估计2025年告竣。

  与今朝已适用化的极紫外光(EUV)半导体系体例程细微化手艺比拟,NIL加倍削减耗能且年夜幅下降装备本钱。

  因NIL的微影制程较纯真,耗电量可压低至EUV出产体例的10%,并让装备投资下降至40%。

  而EUV装备由ASML独家出产供给,不单价钱高,且需要很多检测装备共同。

  今朝NIL在量产上仍有很多问题有待解决,包罗更轻易因细微尘埃而构成瑕疵等问题。

  假如铠侠能成功率先引进NIL量产手艺,可望填补在装备投资比赛中的晦气场合排场,又能合适削减碳排放的需求。

  对铠侠来讲,NAND组件采纳3D堆叠立体布局,更轻易因应NIL手艺的微影制程。

  铠侠暗示,已解决NIL的根基手艺问题,正在完美量产手艺,但愿能率先引入NAND出产。

  按照DNP说法,NIL手艺电路邃密水平可达5nm,DNP从2021年春起,按照装备的规格值进行内部仿真。

  DNP流露,从半导体系体例造商扣问增添,显示很多厂商对NIL手艺寄与厚望。

  而佳能则致力在将NIL手艺普遍利用在建造DRAM和PC用CPU等逻辑IC的装备,供给多种类型的半导体系体例造商,未来也但愿能利用在手机利用处置器等最早进制程。

无需EUV光刻机 铠侠开发NIL半导体工艺:直奔5nm

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